鈦靶材
1.從用材上分：板靶，管靶，圓靶

2.從用途上分：工具鍍，裝飾鍍

3.真空鍍膜分為：濺射鍍，離子鍍膜，蒸發(fā)鍍膜

裝飾鍍：是為了改善工件外觀裝飾性能和色澤，同時(shí)使工件更耐磨耐腐蝕，延長(zhǎng)其壽命； 這方面主要用于五金行業(yè)各個(gè)領(lǐng)域（如門窗五金，鎖具，衛(wèi)浴五金等行業(yè)）。

工具鍍：主要目的是為了提高工件表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系數(shù)，提高工件的使用壽命。

鈦陽(yáng)極，主要用于化工，電鍍行業(yè)，污水處理。

2、靶材的主要性能要求
純度
純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一，因?yàn)榘胁牡募兌葘?duì)薄膜的性能影響很大。
不過(guò)在實(shí)際應(yīng)用中，對(duì)靶材的純度要求也不盡相同。例如，隨著微電子行業(yè)的迅速發(fā)展，硅片尺寸由6”, 8“發(fā)展到12”, 而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC的工藝要求，而制備0.18um線條對(duì)靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。
雜質(zhì)含量
靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對(duì)不同雜質(zhì)含量的要求也不同。例如，半導(dǎo)體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材，對(duì)堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。
密度
為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率，還影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和強(qiáng)度使靶材能更好地承受濺射過(guò)程中的熱應(yīng)力。密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一。
晶粒尺寸及晶粒尺寸分布
通常靶材為多晶結(jié)構(gòu)，晶粒大小可由微米到毫米量級(jí)。對(duì)于同一種靶材，晶
粒細(xì)小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快；而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均
鈦餅